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Step-and-terrace surface formation on (001) β-Ga2O3 by wet etching using 2.38 wt% tetramethylammonium hydroxide (TMAH) lithographic developer
- ジャーナル論文
- 著者
-
Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
- キーワード
- Ga2O3, TMAH, Wet etching
- 刊行年月日
- 2025-08-01
- 更新時刻
- 2025-08-18 16:30:36 +0900
Halide vapor phase epitaxy of a thick c -plane α-Ga2O3 film on a high-quality α-Cr2O3/sapphire template
- ジャーナル論文
- 著者
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Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)
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Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
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Shiyu Xiao (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0009-0007-0382-0396
(unauthenticated)
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;Kazuto Murakami (author) (この著者で検索);Katsuhiro Imai (author) (この著者で検索)Takahiro Tomita (author) (この著者で検索) - キーワード
- Ga2O3, HVPE, Cr2O3
- 刊行年月日
- 2026-02-21
- 更新時刻
- 2026-02-18 16:30:15 +0900
Fabrication of β -Ga 2 O 3 /air-gap structures on (010) β -Ga 2 O 3 by wet etching in tetramethylammonium hydroxide (TMAH)
- ジャーナル論文
- 著者
-
Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
- キーワード
- Ga2O3, TMAH, wet etching, MEMS
- 刊行年月日
- 2025-11-01
- 更新時刻
- 2025-11-27 08:30:13 +0900
Comparative Study of the Optical Properties of α‐, β‐, and κ‐Ga2O3
- ジャーナル論文
- 著者
-
Lewis T. Penman (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0000-0002-0147-9995
(unauthenticated)
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;Zak M. Johnston (author) (この著者で検索)Paul R. Edwards (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0000-0001-7671-7698
(unauthenticated)
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Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)
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;Clifford McAleese (author) (この著者で検索)Piero Mazzolini (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0000-0003-2092-5265
(unauthenticated)
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Matteo Bosi (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0000-0001-8992-0249
(unauthenticated)
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Luca Seravalli (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0000-0003-2784-1785
(unauthenticated)
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;Roberto Fornari (author) (この著者で検索)Robert W. Martin (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0000-0002-6119-764X
(unauthenticated)
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Fabien C.‐P. Massabuau (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0000-0003-1008-1652
(unauthenticated)
- キーワード
- Ga2O3
- 刊行年月日
- 2025-02-12
- 更新時刻
- 2025-08-18 16:30:52 +0900
First-principles lattice thermal conductivity calculation for Ga2O3 / C2/m (12) / materials id 886
- データセット
- コレクション
- MDR lattice thermal conductivity calculation database
- 著者
-
Atsushi Togo (author) (この著者で検索)National Institute for Materials Science Center for Basic Research on Materials
- キーワード
- Lattice thermal conductivity, Ga2O3
- 刊行年月日
- 更新時刻
- 2026-01-24 14:36:41 +0900
First-principles lattice thermal conductivity calculation for Ga2O3 / R-3c (167) / materials id 1243
- データセット
- コレクション
- MDR lattice thermal conductivity calculation database
- 著者
-
Atsushi Togo (author) (この著者で検索)National Institute for Materials Science Center for Basic Research on Materials
- キーワード
- Lattice thermal conductivity, Ga2O3
- 刊行年月日
- 更新時刻
- 2026-01-24 12:32:36 +0900
Materials issues and devices of α- and β-Ga2O3
- ジャーナル論文
- 著者
-
;Elaheh Ahmadi (author) (この著者で検索)Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)National Institute for Materials Science
- キーワード
- Ga2O3, power device, epitaxy
- 刊行年月日
- 2019-10-28
- 更新時刻
- 2024-01-29 15:08:11 +0900
Plasma-free anisotropic selective-area etching of β-Ga 2 O 3 using forming gas under atmospheric pressure
- ジャーナル論文
- 著者
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Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
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Rie Togashi (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0000-0002-9467-0755
(unauthenticated)
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Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)
- キーワード
- Ga2O3, forming gas, anisotropic etching, plasma-free process
- 刊行年月日
- 2024-12-31
- 更新時刻
- 2024-07-31 12:30:20 +0900
Using selective-area growth and selective-area etching on (−102) β-Ga2O3 substrates to fabricate plasma-damage-free vertical fins and trenches
- ジャーナル論文
- 著者
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Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)National Institute for Materials Science Research Center for Electronic and Optical Materials
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Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)National Institute for Materials Science Research Center for Electronic and Optical Materials
- キーワード
- Ga2O3, (-102), selective area growth, selective area etching
- 刊行年月日
- 2024-01-22
- 更新時刻
- 2025-01-25 12:30:12 +0900