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HCl-gas etching of (001) β-Ga2O3 under oxygen supply
- 論文
- 著者
-
Yuichi Oshima
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Takayoshi Oshima
- キーワード
- Ga2O3, etching, plasma-free
- 刊行年月日
- 2025-12-31
- 更新時刻
- 2025-09-04 12:30:19 +0900
Formation of GaN mesas with reverse-tapered edge structures on a lattice-matched AlInN layer for a positive beveled edge termination
- 論文
- 著者
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Takayoshi Oshima
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Masataka Imura
;
Yuichi Oshima
- キーワード
- GaN, AlInN, etching, positive bevel edge termination
- 刊行年月日
- 2024-08-01
- 更新時刻
- 2024-08-02 12:30:52 +0900
Plasma-free dry etching of (001) β-Ga2O3 substrates by HCl gas
- 論文
- 著者
-
Takayoshi Oshima
;
Yuichi Oshima
- キーワード
- Ga2O3, etching, HCl
- 刊行年月日
- 2023-04-17
- 更新時刻
- 2024-05-29 08:30:12 +0900