Plasma-free anisotropic selective-area etching of β-Ga 2 O 3 using forming gas under atmospheric pressure
- ジャーナル論文
- 著者
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Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
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Rie Togashi (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0000-0002-9467-0755
(unauthenticated)
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Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)
- キーワード
- Ga2O3, forming gas, anisotropic etching, plasma-free process
- 刊行年月日
- 2024-12-31
- 更新時刻
- 2024-07-31 12:30:20 +0900
High-performance β-Ga2O3 Schottky barrier diodes and metal-semiconductor field-effect transistors on a high doping level epitaxial layer
- ジャーナル論文
- 著者
-
;Qihao Zhang (author) (この著者で検索)Jiangwei Liu (author) (この著者で検索)National Institute for Materials Science
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;Chunming Tu (author) (この著者で検索);Dongyuan Zhai (author) (この著者で検索);Min He (author) (この著者で検索)Jiwu Lu (author) (この著者で検索)
- キーワード
- Ga2O3, Transistor
- 刊行年月日
- 2023-01-03
- 更新時刻
- 2025-01-04 16:30:50 +0900
Halide vapor phase epitaxy of a thick c -plane α-Ga2O3 film on a high-quality α-Cr2O3/sapphire template
- ジャーナル論文
- 著者
-
Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)
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Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
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Shiyu Xiao (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0009-0007-0382-0396
(unauthenticated)
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;Kazuto Murakami (author) (この著者で検索);Katsuhiro Imai (author) (この著者で検索)Takahiro Tomita (author) (この著者で検索)
- キーワード
- Ga2O3, HVPE, Cr2O3
- 刊行年月日
- 2026-02-21
- 更新時刻
- 2026-02-18 16:30:15 +0900