Plasma-free dry etching of (001) β-Ga2O3 substrates by HCl gas

論文

著者

Takayoshi Oshima ; Yuichi Oshima

キーワード

Ga2O3, etching, HCl

刊行年月日

2023-04-17

更新時刻

2024-05-29 08:30:12 +0900