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HCl-gas etching of (001) β-Ga2O3 under oxygen supply
- 論文
- 著者
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Yuichi Oshima
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Takayoshi Oshima
- キーワード
- Ga2O3, etching, plasma-free
- 刊行年月日
- 2025-12-31
- 更新時刻
- 2025-09-04 12:30:19 +0900
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Takayoshi Oshima