キーワード: etching
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HCl-gas etching behavior of 001 -Ga2O3 under oxygen supply.pdf
HCl-gas etching of (001) β-Ga2O3 under oxygen supply
ジャーナル論文
著者
Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)
National Institute for Materials Science Research Center for Electronic and Optical Materials/Functional Materials Field/Ultra-wide Bandgap Semiconductors Group
ORCID SAMURAI ;
Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
National Institute for Materials Science Research Center for Electronic and Optical Materials/Functional Materials Field/Ultra-wide Bandgap Semiconductors Group
ORCID SAMURAI
キーワード
Ga2O3, etching, plasma-free
刊行年月日
2025-12-31
更新時刻
2025-09-04 12:30:19 +0900
BGO(001)etch230802_clean.pdf
Effect of temperature and HCl partial pressure on the selective area gas etching of (001) β-Ga2O3
ジャーナル論文
著者
Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)
National Institute for Materials Science
ORCID SAMURAI ;
Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
National Institute for Materials Science
ORCID SAMURAI
キーワード
β-Ga2O3, etching
刊行年月日
2023-08-01
更新時刻
2024-08-21 08:30:30 +0900
162102_1_5.0138736.pdf
Plasma-free dry etching of (001) β-Ga2O3 substrates by HCl gas
ジャーナル論文
著者
Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
National Institute for Materials Science
ORCID SAMURAI ;
Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)
National Institute for Materials Science
ORCID SAMURAI
キーワード
Ga2O3, etching, HCl
刊行年月日
2023-04-17
更新時刻
2024-05-29 08:30:12 +0900
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