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Anisotropic non-plasma HCl gas etching of (010) β-Ga2O3 substrate
- 論文
- 著者
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Takayoshi Oshima
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Yuichi Oshima
- キーワード
- Ga2O3, HCl gas etching
- 刊行年月日
- 2023-06-01
- 更新時刻
- 2024-06-15 08:30:13 +0900
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Yuichi Oshima