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Plasma-free anisotropic selective-area etching of β-Ga 2 O 3 using forming gas under atmospheric pressure
- 論文
- 著者
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Takayoshi Oshima
;
Rie Togashi
;
Yuichi Oshima
- キーワード
- Ga2O3, forming gas, anisotropic etching, plasma-free process
- 刊行年月日
- 2024-12-31
- 更新時刻
- 2024-07-31 12:30:20 +0900