資源タイプ: ジャーナル論文 キーワード: etching
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162102_1_5.0138736.pdf
Plasma-free dry etching of (001) β-Ga2O3 substrates by HCl gas
ジャーナル論文
著者
Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
National Institute for Materials Science
ORCID SAMURAI ;
Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)
National Institute for Materials Science
ORCID SAMURAI
キーワード
Ga2O3, etching, HCl
刊行年月日
2023-04-17
更新時刻
2024-05-29 08:30:12 +0900
BGO(001)etch230802_clean.pdf
Effect of temperature and HCl partial pressure on the selective area gas etching of (001) β-Ga2O3
ジャーナル論文
著者
Yuichi Oshima (author) (この著者で検索)
National Institute for Materials Science
ORCID SAMURAI ;
Takayoshi Oshima (author) (この著者で検索)
National Institute for Materials Science
ORCID SAMURAI
キーワード
β-Ga2O3, etching
刊行年月日
2023-08-01
更新時刻
2024-08-21 08:30:30 +0900
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