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超薄膜エレクトロニクスグループにおける研究の取り組みについて紹介する。
特に、次世代半導体技術に必要不可欠な原子層堆積法を用いた新規機能性薄膜材料の探索について述べる。

Rights:

• In Copyright
  

Keyword: 原子層堆積法

Date published: [2025年10月]

Publisher: 日本オゾン協会

Journal:

• Ozonews in Japan (ISSN: 09178260) issue. 135 p. 14-14

Funding:

Manuscript type: Author's version (Accepted manuscript)

MDR DOI: https://doi.org/10.48505/nims.6432

First published URL: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000080606-i33840431#bib

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Updated at: 2026-07-31 09:22:02 +0900

Published on MDR: 2026-07-31 10:29:34 +0900