Presentation コンビナトリアルスパッタ成膜法によるMgSiSn系薄膜のナノ構造制御と熱電特性

後藤 真宏 SAMURAI ORCID (国際ナノアーキテクトニクス研究拠点/ナノマテリアル分野/熱エネルギー変換材料グループ, 物質・材料研究機構) ; 佐々木 道子 SAMURAI ORCID (国際ナノアーキテクトニクス研究拠点/ナノマテリアル分野/熱エネルギー変換材料グループ, 物質・材料研究機構)

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Citation
後藤 真宏, 佐々木 道子. コンビナトリアルスパッタ成膜法によるMgSiSn系薄膜のナノ構造制御と熱電特性. https://doi.org/10.48505/nims.5147
SAMURAI

Alternative title: Thermoelectric property of nanostructured Mg/Si/Sn thin films controlled by combinatorial sputter coating method

Description:

(abstract)

多種多様な薄膜作製が可能な独自に開発したコンビナトリアルスパッタ法(COSCOS)
を用いて、MgSiSn系薄膜のナノ構造制御を試みた。超格子構造からのアニールにより、複雑なナノ構造を創製することができた。その材料は、熱伝導率の低減、ゼーベック係数の増大が起こり、無次元性能指数(zT)が向上することが明らかとなった。今回の結果は、ナノ構造制御による熱電変換効率向上の可能性を示唆する。

Rights:

Keyword: コンビナトリアルスパッタ, ナノ構造, 熱電, 薄膜

Conference: 2023年第70回応用物理学会春季学術講演会 (2023-03-15 - 2023-03-18)

Funding:

  • JST CREST JPMJCR21O2
  • JST CREST JPMJCR16Q5

Manuscript type: Not a journal article

MDR DOI: https://doi.org/10.48505/nims.5147

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Updated at: 2025-04-10 21:49:22 +0900

Published on MDR: 2024-12-13 12:30:42 +0900

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