Reliable Ohmic Contact Properties for Ni/Hydrogen-Terminated Diamond at Annealing Temperature up to 900 °C
- ジャーナル論文
- 著者
-
;Xiaolu Yuan (author) (この著者で検索);Jiangwei Liu (author) (この著者で検索)Jinlong Liu (author) (この著者で検索)National Institute for Materials Science
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;Junjun Wei (author) (この著者で検索)Bo Da (author) (この著者で検索)National Institute for Materials Science
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;Chengming Li (author) (この著者で検索)Yasuo Koide (author) (この著者で検索)National Institute for Materials Science
- キーワード
- hydrogen-terminated diamond (H-diamond), ohmic contact, Ni, specific contact resistance, high-temperature
- 刊行年月日
- 2021-04-17
- 更新時刻
- 2024-01-05 22:12:52 +0900
XAFS spectrum of Nickel
- データセット
- コレクション
- MDR XAFS DB
- 著者
-
Masashi Ishii (editor) (この著者で検索)National Institute for Materials Science
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Kiyotaka Asakura (author) (この著者で検索)
https://orcid.org/0000-0003-1077-5996
(unauthenticated)
Hokkaido University
- キーワード
- Nickel, Ni, Ni K-edge, Pure metal, Si(311), Hokkaido University, Institute for Catalysis, XAFS, collection - MDR XAFS DB
- 刊行年月日
- 更新時刻
- 2025-05-02 21:48:10 +0900
XAFS spectrum of Nickel
- データセット
- コレクション
- MDR XAFS DB
- 著者
-
Masashi Ishii (editor) (この著者で検索)National Institute for Materials Science
;
Toshihiko Yokoyama (author) (この著者で検索)Institute for Molecular Science
- キーワード
- Nickel, Ni, Ni K-edge, Pure metal, Si(111), Hokkaido University, Institute for Catalysis, XAFS, collection - MDR XAFS DB
- 刊行年月日
- 更新時刻
- 2025-05-02 22:03:40 +0900
XAFS spectrum of Nickel
- データセット
- コレクション
- MDR XAFS DB
- 著者
-
Masashi Ishii (editor) (この著者で検索)National Institute for Materials Science
;
Takanori Itoh (author) (この著者で検索)AGC Seimichemicals Co.
- キーワード
- Nickel, Ni, Ni K-edge, Pure metal, Si(111), Hokkaido University, Institute for Catalysis, XAFS, collection - MDR XAFS DB
- 刊行年月日
- 更新時刻
- 2025-05-02 21:37:13 +0900