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Electron trapping/detrapping at oxygen vacancies and imprint evolution in La-doped Hf0.5Zr0.5O2 ferroelectric capacitors probed by hard x-ray photoelectron spectroscopy
- 論文
- 著者
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W. Hamouda
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Y. Yamashita
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S. Ueda
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S. Matzen
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O. Renault
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F. Mehmood
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T. Mikolajick
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U. Schroeder
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N. Barrett
- キーワード
- Hf0.5Zr0.5O2, HAXPES, operando
- 刊行年月日
- 2025-11-03
- 更新時刻
- 2025-11-13 12:30:12 +0900