廖 梅勇
(電子・光機能材料研究センター/機能材料分野/超ワイドギャップ半導体グループ, 物質・材料研究機構)
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趙 文
(電子・光機能材料研究センター/機能材料分野/超ワイドギャップ半導体グループ, 物質・材料研究機構)
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小泉 聡
(電子・光機能材料研究センター/機能材料分野/超ワイドギャップ半導体グループ, 物質・材料研究機構)
説明:
(abstract)本稿では、水素終端されたリンドープダイヤモンド表面の二次元正孔ガスを利用したpチャネルMOSFET (金属-酸化膜-半導体電界効果トランジスタ) の形成に関して報告する。
権利情報:
キーワード: diamond, transistor
刊行年月日: 2025-04-25
出版者: 一般社団法人 ニューダイヤモンドフォーラム
掲載誌:
研究助成金:
原稿種別: 著者最終稿 (Accepted manuscript)
MDR DOI: https://doi.org/10.48505/nims.5630
公開URL: https://jndf.org/katsudo/kaishi/backnumber/kaishi-157.html
関連資料:
その他の識別子:
連絡先:
更新時刻: 2025-08-18 12:30:23 +0900
MDRでの公開時刻: 2025-08-18 12:20:44 +0900
| ファイル名 | サイズ | |||
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ダイヤモンド p-MOSFET 20250107SK_Liao.doc
(サムネイル)
application/msword |
サイズ | 1.58MB | 詳細 |