Report 水素化アモルファスシリコンにおける光誘起構造変化
森垣 和夫 (author) (Search by this author)
東京大学物性研究所
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新倉 ちさと (author) (Search by this author)
ORCID https://orcid.org/0000-0003-1815-0122
高分子・バイオ材料研究センター/高分子材料分野/プリンテッドエレクトロニクスグループ, 物質・材料研究機構
SAMURAI NIMS Researchers Directory SAMURAI
ORCID SAMURAI ;
荻原 千聡 (author) (Search by this author)
山口大学
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武田 侯政 (author) (Search by this author)
東海大学
Collection

Citation
森垣 和夫, 新倉 ちさと, 荻原 千聡, 武田 侯政. 水素化アモルファスシリコンにおける光誘起構造変化. https://www.agne.co.jp/kotaibutsuri/kota1059.htm

Alternative title: Photoinduced structural change in hydrogenated amorphous silicon

Description:

(abstract)

強力なパルスレーザー光照射による水素化アモルファスシリコンの光誘起構造変化を、ダングリングボンド欠陥の生成と準安定自由水素原子の生成の観点から考察した。また、赤外吸収スペクトルの光照射効果からの光誘起構造変化についても考察を行った。

Rights:

Keyword: アモルファスシリコン, 欠陥, 電子スピン共鳴, 赤外吸収, 光誘起構造変化

Date published: 2024-09-15

Publisher: アグネ技術センター

Journal:

  • 固体物理 (ISSN: 04544544) vol. 59 issue. 9

Funding:

Manuscript type: Publisher's version (Version of record)

MDR DOI:

First published URL: https://www.agne.co.jp/kotaibutsuri/kota1059.htm

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Updated at: 2025-09-15 08:30:19 +0900

Published on MDR: 2025-09-15 08:23:41 +0900

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