報告書 nチャネルダイヤモンド金属-酸化膜-半導体電界効果トランジスタ

廖 梅勇 SAMURAI ORCID (電子・光機能材料研究センター/機能材料分野/超ワイドギャップ半導体グループ, 物質・材料研究機構) ; 小泉 聡 SAMURAI ORCID (電子・光機能材料研究センター/機能材料分野/超ワイドギャップ半導体グループ, 物質・材料研究機構)

コレクション

引用
廖 梅勇, 小泉 聡. nチャネルダイヤモンド金属-酸化膜-半導体電界効果トランジスタ. https://doi.org/10.48505/nims.5122
SAMURAI

説明:

(abstract)

本研究では、高品質単結晶n型ダイヤモンド半導体成長技術をベースに、n型チャネルダイヤモンドMOSFETの形成に成功したので紹介する。

権利情報:

キーワード: Diamond, n-type, transistor

刊行年月日: 2024-07-25

出版者: 一般社団法人 ニューダイヤモンドフォーラム

掲載誌:

  • 会誌 NEW DIAMOND vol. 40 issue. 3 p. 28-29

研究助成金:

原稿種別: 査読前原稿 (Author's original)

MDR DOI: https://doi.org/10.48505/nims.5122

公開URL: https://jndf.org/katsudo/kaishi/backnumber/kaishi-154.html

関連資料:

その他の識別子:

連絡先:

更新時刻: 2024-12-10 16:55:19 +0900

MDRでの公開時刻: 2024-12-10 16:55:19 +0900

ファイル名 サイズ
ファイル名 ダイヤモンド MOSFET 20240313sk 0422.doc (サムネイル)
application/msword
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