# Fileset

[HfO2-Fig11-Work-20230710.pdf](https://mdr.nims.go.jp/filesets/ad929da2-b845-4d91-a4d6-16244dbd4133/download)

## Creator

[OGIWARA, Toshiya](https://orcid.org/0000-0002-7376-6571), [NAGATA, Takahiro](https://orcid.org/0000-0002-8591-2943), [YOSHIKAWA, Hideki](https://orcid.org/0000-0002-7389-8865)

## Rights

[In Copyright](http://rightsstatements.org/vocab/InC/1.0/)

## Other metadata

[Raw data files for Fig. 11 Auger depth profiles in "Auger Depth Profiling Analysis of HfO2/Si Specimen Using an Ultra Low Angle Incidence Ion Beam"](https://mdr.nims.go.jp/datasets/fb7126af-5fec-432f-b88a-e6d5ab804516)

## Fulltext

HfO2/Siデプスプロファイル研究論文，”極低角度入射ビームオージェ深さ方向分析によるHfO2/Si基板の分析”に掲載されている Fig.11オージェデプスプロファイルの Raw data ファイル荻原俊弥，長田貴弘，吉川英樹，J. Surf. Anal. 24, 192 (2018).a) のオージェデプスプロファイルは論文に掲載の Fig.11 に相当し，横軸は nm である．b) は横軸を測定回数で表したものであり，横軸を nm に変換する前のプロファイルである．Raw data ファイルは，b) に対応している．a) b)O KLLHf NVVHf MNNSi KLL スライド 1: 研究論文，”極低角度入射ビームオージェ深さ方向分析によるHfO2/Si基板の分析”に掲載されている Fig.11オージェデプスプロファイルの Raw data ファイル