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Reference-Free Quantitative Mass Spectrometry Enables Sequencing of Resist Copolymers and Reveals Sequence-Dependent Deprotection Sensitivity
- 論文
- 著者
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Yusuke Hibi
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Yasuyuki Nakamura
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Shiho Uesaka
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Masanobu Naito
- キーワード
- polymer sequencing, monomer sequence analysis, pyrolysis mass spectrometry, photoresist, non-negative matrix factorization, reference-free quantitative mass spectrometry
- 刊行年月日
- 2026-02-10
- 更新時刻
- 2026-02-13 16:30:15 +0900