ALD- （ZrO2）/（HfO2） ラミネートによる HfZrO2 強誘電体薄 膜の作製と電気特性

ジャーナル論文

著者

生田目 俊秀 (author) (この著者で検索)

https://orcid.org/0000-0002-5973-0230

物質・材料研究機構 ナノアーキテクトニクス材料研究センター

NIMS Researchers Directory SAMURAI

生田目 俊秀 ;

澤田 朋実 (author) (この著者で検索)

物質・材料研究機構 ナノアーキテクトニクス材料研究センター/半導体材料分野/超薄膜エレクトロニクスグループ

澤田 朋実 ;

女屋 崇 (author) (この著者で検索)

https://orcid.org/0000-0002-2710-8623 (unauthenticated)

物質・材料研究機構 ナノアーキテクトニクス材料研究センター/半導体材料分野/超薄膜エレクトロニクスグループ

女屋 崇 ;

塚越 一仁 (author) (この著者で検索)

https://orcid.org/0000-0001-9710-2692

物質・材料研究機構 ナノアーキテクトニクス材料研究センター/半導体材料分野/超薄膜エレクトロニクスグループ

NIMS Researchers Directory SAMURAI

塚越 一仁

キーワード

ALD, HfZrO2 ferroelectric, (ZrO2)/(HfO2) laminate, Orthorhombic phase

刊行年月日

[2026年10月]

更新時刻

2026-10-15 13:49:43 +0900