口頭発表 電子分光法における表面定量分析の標準化の歩み

田沼 繁夫 SAMURAI ORCID (統合型材料開発・情報基盤部門/材料データプラットフォームセンター/データサービスチーム, National Institute for Materials ScienceROR)

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引用
田沼 繁夫. 電子分光法における表面定量分析の標準化の歩み. https://doi.org/10.48505/nims.4195
SAMURAI

説明:

(abstract)

AESやXPSに代表される表面電子分光法における定量化は, 1982年のVAMAS プロジェクト TWA-2 SCAの設立と1991年のISO TC201SCAの設立が2つの大きな転換点といえる。前者では,個々人の定量研究から国際共同研究を通して,定量の信頼性や正確性・遡及性が議論された。その発展として,ISOを通しての「定量化の標準化」がなされてきた。この定量化と標準化(の一断面)を, XPSとAESにおける「感度係数法」の進展を通して考えてみたい。この2つのプロジェクトがなければ「表面定量」はあっても「表面定量の標準化」は無かったであろう。

権利情報:

キーワード: 表面定量分析, 国際標準化, ISO, 標準化の歴史, 標準化の意味

会議: 2023年JSCA国際標準化セミナー (2023-02-10)

研究助成金:

原稿種別: 論文以外のデータ

MDR DOI: https://doi.org/10.48505/nims.4195

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更新時刻: 2023-06-26 10:42:44 +0900

MDRでの公開時刻: 2023-06-26 20:16:01 +0900

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ファイル名 表面定量分析における標準化の歩み_v3.pdf (サムネイル)
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